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布图设计有专门的保护制度，既不套用专利，也不套用著作权：布图设计专有权经向国家知识产权局登记产生，登记申请应当在首次商业利用后的法定期限内提出，逾期即丧失保护机会；保护期自登记申请之日或者首次商业利用之日起算（以较早者为准），且有最长保护年限。未经许可复制受保护的布图设计或者将其投入商业利用的，构成侵权；为反向工程目的而获取分析评价所含信息的行为则依法有豁免空间。
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1流片前先评估是否登记，商业利用一旦开始即计入登记期限，宜早不宜迟。
22026年修订的《集成电路布图设计保护条例》（国务院令第842号）将于2026年10月15日施行，近期登记与维权安排建议对照新旧规则。
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