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集成电路布图设计通过专门立法保护：布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记不受保护；权利人享有复制权与商业利用权，他人未经许可复制或商业利用构成侵权。保护期为十年，自登记申请之日或首次投入商业利用之日起算（以较前日期为准），但自创作完成之日起十五年后不再受保护。为个人目的或仅为评价、分析、研究、教学目的复制，以及在评价分析基础上另行创作出具独创性布图设计的，可不经权利人许可、不支付使用费。
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1布图设计专有权自登记产生，未经登记通常难以主张权利，建议在首次商业利用后尽早申请登记。
2《集成电路布图设计保护条例》已于2026年修订（国务院令第842号），自2026年10月15日起施行；2026年10月15日之前发生的登记、商业利用等行为，须核验当时适用的国务院令第300号版本，注意新旧版本的适用衔接。
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